光干渉式膜厚測定装置

【用途・特徴】
半導体プロセスにおける各種膜を光学式により非接触で膜厚測定します。

メーカー名

大日本スクリーン製造株式会社

型番

ラムダエース VM-8000J

仕様

測定対象膜SiO2(酸化シリコン)、Si3N4(窒化シリコン)、レジスト、ポリSi(ポリシリコン)、ポリイミド/測定範囲10nm~20μm(膜種による)/測定再現精度0.1nm:膜厚10nm~3μm,0.03%:膜厚3μm~20μm/測定時間:約1秒

ご利用方法

試験計測(依頼試験)機器使用で利用できます

料金について

■ 試験計測(依頼試験)料金

料金についてはお問い合わせください。

光干渉式膜厚測定

料金NO.項目単位料金担当部名
E1130光干渉式膜厚測定 1試料1測定点につき3,190円電子技術部
E1140光干渉式膜厚測定 1測定点増1試料につき1測定点増すごとに1,540円電子技術部

■ 機器使用料金 (特に表記のない場合は、1時間当たりの料金となります。)

料金NO.設備機器名メーカー・型式使用料担当部名
E6950光干渉式膜厚測定装置大日本スクリーン VM-8000J3,080円電子技術部

導入年度

平成8年度
  • この装置に関連するお問い合わせ
  • 担当:電子技術部 電子デバイスグループ
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