両面マスクアライナ(手動式マスクアライナ/紫外線露光装置)

【用途・特徴】
半導体製造装置(半導体プロセス装置)/本装置は、フォトリソグラフィー技術を用いてサブミクロン状の微細パターンをサブミクロン・レベルの高い重ね合わせ精度で加工するための手動式両面紫外線露光装置です。フォトマスク(クロムマスク)のパターン転写。/ご利用の一例:MEMS(圧力センサー他)、マイクロ成型金型原盤、 LED照明用バックライト用金型原盤、マイクロ流体チップ作製/厚膜レジストによる高アスペクト比構造体/ナノインプリント加工、高精度張り合わせ(それぞれ専用ジグをご用意いただく必要があります)/薄膜パターニング用のレジスト加工

メーカー名

ズース・マイクロテック株式会社

型番

MA6-BSA

仕様

光源: 350W/基板サイズ: 2cm角から6インチφ/マスクサイズ4,5,7インチ角/位置合せ精度: 表面 ±0.5um,裏面 ±1 um/光学系: 350~450nm対応、(i線、h線、g線)ブロードバンド/微細パターンの解像度: 最小線幅0.75um/露光モード: ハード(ソフト、バキューム)コンタクト露光、プロキシミティ露光

ご利用方法

試験計測(依頼試験)で利用できます

料金について

■ 試験計測(依頼試験)料金

高精度フォトリソグラフィ

料金NO.項目単位料金担当部名
E1191高精度フォトリソグラフィ1枚につき25,300円電子技術部
E1192高精度フォトリソグラフィ 1枚増 1枚増すごとに9,020円電子技術部

導入年度

平成20年度
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  • 担当:電子技術部 電子材料グループ
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