プラズマ処理装置 - クリックで拡大します -- クリックで拡大します -【用途・特徴】 真空槽内に設けた並行平板型の電極に高周波を印加し、原料ガスをプラズマで分解する装置です。減圧下で、水素プラズマ処理が可能です。 メーカー名日本真空技術株式会社型番特殊仕様仕様13.56MHz、500W RF電源/基板加熱温度:350℃/基板:4インチ以下/導入可能ガス:水素、アルゴンご利用方法試験計測(依頼試験)で利用できます料金について■ 試験計測(依頼試験)料金料金についてはお問い合わせください。導入年度昭和61年度 この装置に関連するお問い合わせ 担当:化学技術部 新エネルギーグループ その他の技術相談はこちらから